| 1990年2月 |
資本金500万円をもって設立(大阪府堺市新家町) |
| 8月 |
排ガス処理装置1号機「TLV-AF」開発 |
| 10月 |
粉体除去装置開発 |
| 1991年1月 |
排ガス処理装置全自動タイプ「TLV-AFN」開発 |
| 2月 |
資本金2,000万円に増資 |
| 5月 |
排ガス処理装置低価格タイプ「TLV-M-AN」「TLV-MW-AF」開発 |
| 1992年1月 |
メンテナンス工場完成 |
| 2月 |
排ガス処理装置小型全自動タイプ「TLV-AFNX」開発 |
| 1994年 4月 |
新社屋完成移転(大阪府堺市東山) |
| 5月 |
排ガス処理装置輸出モデル「TLV-AFCX」「TLV-AFCWX」開発 |
| |
ニュー・テクノロジー株式会社設立（関連企業） |
| 1995年 2月 |
資本金5,000万円に増資 |
| 6月 |
九州営業所開設(熊本県菊陽群菊陽町) |
| |
Clean Technology Korea Co., Ltd.（関連企業）仁川市（韓国）に設立 |
| 8月 |
クリーン・メンテナンス株式会社設立（関連企業） |
| 11月 |
本社社屋増築完成(大阪府堺市東山) |
| |
深井工場完成 |
| 1996年 4月 |
Clean Technology Korea Co., Ltd.（関連企業）水原市（韓国）に移転、 |
| |
工場完成 |
| 10月 |
フロン処理装置・水スクラバ開発 |
| 11月 |
半導体用排気ラインフィルタ「バリヤトロン」／ |
| |
自動配管クリーニングシステム「ダクトロン」／ |
| |
半導体用バキュームユニット「セルペンス」開発 |
| 12月 |
関東営業所開設(神奈川県相模原市当麻) |
| 1999年 5月 |
ドライエッチング用排ガス処理装置「テクノクリーン」開発 |
| |
乾式排ガス処理装置用薬剤の社内開発を開始 |
| 2000年 1月 |
ヒータ式排ガス処理装置「シリウス」開発 |
| |
湿式排ガス処理装置「アクア」開発 |
| 2月 |
排気切替えユニット「テクノチェンジャー」開発 |
| 12月 |
湿式排ガス処理装置「アクアⅡ」開発 |
| 2001年 7月 |
配管内コーティング「CTコート」販売開始 |
| 9月 |
配管用ジャケット式ヒータ「CTジャケット」開発 |
| 2002年 1月 |
ヒータ式排ガス処理装置「シリウスPA」開発 |
| 12月 |
湿式排ガス処理装置「アクアⅢ」開発 |
| 2003年 3月 |
関東営業所移転(神奈川県伊勢原市東成瀬) |
| 2004年 9月 |
ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザー」開発 |
| 2005年12月 |
半導体用水中掃除機「アクアクリーン」開発 |
| 2006年 5月 |
半導体用VOC処理装置「レグルス」開発 |
| 12月 |
プラズマ式排ガス処理装置「サンダー」開発 |
| 2007年 4月 |
ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーネオ」開発 |
| 5月 |
新社屋完成移転(大阪府泉佐野市日根野) |
| |
ヒータ式排ガス処理装置「シリウスプリンツ」開発 |
| 2008年 2月 |
ISO 9001、14001を取得 |
| 8月 |
ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーギガント」開発 |
| 12月 |
クリーン・テクノロジー株式会社/ニュー・テクノロジー株式会社 合併 |
| |
資本金6,000万円に増資 |
| 2009年10月 |
ヒータ触媒式排ガス処理装置「ナイトクリーン」開発 |
| 2011年11月 |
九州営業所移転(熊本県菊池郡大津町) |
| 2013年4月 |
ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーオズ」開発 |
| 2015年7月 |
プラズマ式排ガス処理装置「ラフォック」開発 |
| 2016年9月 |
プラズマ式排ガス処理装置「デュアルサンダー」開発 |
| 2017年4月 |
ヒータ式排ガス処理装置「シリウスカイザーオズⅡ」開発 |
| 6月 |
湿式粉体処理装置「コトル」開発 |
| 2019年5月 |
コトルの単体モデル市場導入 |
| 2020年1月 |
本社3階生産現場増設 |
| 6月 |
ニュー・テクノロジー株式会社設立（子会社） |
| 2021年6月 |
長崎営業所開設 |
| 9月 |
関東営業所移転 |
| 2022年1月 |
宮城営業所開設 |
| 2022年5月 |
Clean Technology America, Inc.設立 |
| 2024年7月 |
新社屋完成移転（大阪府泉南市りんくう南浜） |
| 2024年10月 |
長崎営業所移転 |
